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5A~100A/50V~1100V快恢复二极管(FRD)方形芯片制造技术

2007年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
该项目采用激光造型扩散形成隔离墙、浅P+阴极短路点、超薄阳极发射区等技术,同时集成运用低温扩铂及N+磷硅玻璃吸收、玻璃钝化、高能电子辐照(ER)等技术,成功研制出5A-100A/50V-1100V FRD系列方形芯片。...
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