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双轨式磨牙远移器的研制及其在矫治牙列轻、中度拥挤中的应用研究

2000年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　自行研制的双轨式磨牙远移器及第二磨牙稳定矫正器能够充分发挥口内支抗潜能，对支抗牙及移动产生高质量控制，可使上、下颌第二磨牙、第一磨牙同时后移，与经典口外弓后推上颌第一磨牙相比，不仅免除患者配带口外弓的诸多不便，而且在后推时间及磨牙后移距离上都具有明显优势。
　　检索查新表明，近10年来未见与该研究相关的文献，它具有设计科学合理、易于取材，制作简单，便于推广，具有良好的社会、经济效益...
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