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激光退火引发非晶硅及锗硅薄膜固相结晶研究

2006年 基础理论
  • 成果简介
　　本项目揭示了激光退火对硅与锗硅薄膜结晶度提高、质量及性能改善的有效性，得到了激光退火工艺参数与薄膜物理及电学特性之间的函数关系，并和热退火等工艺引发的结晶做了比较，初步提取了薄膜晶体管的器件参数，获得了一些有价值、有意义的数据和结果。
　　本项目的一些结果可以应用到基于低温薄膜晶体管的液晶显示器的制造上。...
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