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晶粒尺寸和密度分布可控的硅基纳米材料的激光烧蚀沉积研究

2006年 基础理论
  • 成果简介
该项实验利用波长为308nm的Xecl脉冲准分子激光器，以高纯Si单晶片作为靶材料，通过掺入合适的Er原子浓度和选择适宜的环境气体，并严格控制各种工艺条件，在SiO2和石英表面上烧蚀沉积了具有尺寸和密度均匀分布的纳米晶粒。在实验研究的基础上，创建性地提出了实现晶粒有序Si基纳米发光材料自组织生长的两种工艺技术方案和解释Si基纳米发光材料特性的三种物理模型，对深化Si基纳米发光材料特性的认识...
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