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Φ8″高性能硅外延材料

2006年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
该课题利用化学汽相淀积方法，采用世界最先进ASM公司EP2000型单片外延设备，高温下氯硅烷与H2发生反应，分解出的Si原子在原子级洁净的单晶片上通过物理运输和化学结合，外延一层或多层晶格与原单晶匹配的薄膜，通过时间控制和掺杂控制，获得了不同电阻率、不同厚度、不同类型、不同结构的φ8″硅外延材料。本研究通过温度均匀性的控制、气体流速的控制、反应室压力的控制和自掺杂的控制，掌握了φ8″硅外延...
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