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真空化学镀技术

2005年

应用技术

成果简介

该技术原理如下：在真空室内采用真空弧光放电技术，在阴极材料表面产生弧光，使阴极材料蒸发，形成原子和离子。在电场作用下，原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体，即可在工件表面形成具有优良性能的镀层。阴极材料(也称靶材)一般采用钛、铬、锆等金属，常用反应气体为氮气和碳氢化合物气体。获得的镀层有TiN、CrN、TiC、ZrN等。真空化学镀技术具有下列优点：(1)可获得高硬...

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