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新型电子清洗剂DZ-4与清洗工艺

2005年 应用技术
  • 成果简介
一、成果内容简介、关键技术、技术经济指标：新型电子清洗剂DZ-4及清洗工艺主要用于清洗半导体硅片上的黑蜡、松香和石蜡混合物。传统的半导体清洗工艺通常使用苯、甲苯、三氯乙烯、二氯甲烷等有机溶剂清洗黑蜡以及松香和石蜡混合物，它们毒性大、污染环境、危害操作人员的健康。研制成功的新型电子清洗剂DZ-4及清洗工艺经清华大学电力电子厂、国营8070厂和上海新玻电子有限公司等单位应用证明：清洗效果与传统清洗工艺...
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