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新型电子清洗剂DZ-3与清洗工艺

2005年 应用技术
  • 成果简介
一、成果内容简介、关键技术、技术经济指标：新型电子清洗剂DZ-3及清洗工艺主要用于半导体工业中去除曝光、显影后的环化橡胶系列负性光刻胶。国内外目前半导体工业中常用的去胶剂毒性大、污染环境、危害操作人员的健康。经清华大学电力电子厂和上海新玻电子有限公司等单位试用，表明：新型电子清洗剂DZ-3清洗效果与传统清洗工艺相当，具有无毒、无腐蚀性的特性，对人体无危害，对环境无污染，完全可以取代传统的湿法和干法...
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