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低气压层流等离子体喷涂装置

2003年 应用技术
  • 成果简介
该专利是低气压层流等离子体喷涂装置，属于金属材料表面处理设备。该装置包括：真空室、等离子体射流发生器、供粉器、电源、气源和冷却水源等。其中的等离子体发生器是层流等离子体射流发生器，在其阳极和阴极之间有一中间段，通过发生器连接机构安装在真空室上并可以径向或轴向移动；真空室的底面安装有旋转、移动多个自由度并能对工件水冷的工件台，工件台和射流发生器之间有挡板机构，真空室与机械真空泵之间有水冷过滤器。该装...
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