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用于红外焦平面成像系统的非均匀性测量和校正的方法及装置

2005年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
本发明提供了一种适用于红外焦平面成像系统的非均匀性测量和校正的方法及装置。它只需一个恒定红外辐射源，通过精确控制焦平面探测器的光学积分时间来控制入射到焦平面上的辐射能量，测量系统在不同入射能量情况下的响应曲线，从而实现系统的非均匀性校正。在红外系统设计中，增加一可精确调整积分时间的定时模块，并由微处理器编程控制，简化了系统设计，且提供现场校正定标的功能。实例显示，采用该方法可将焦平面成像系...
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