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电子束光刻及制版技术

2003年

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项目介绍：该中心光掩模及超细微加工技术实验室是一个为全国服务的光掩模制造和超细微图形加工技术研究综合实验室。实验室拥有GCA 3600F图形发生器、GCA 3696分步重复精缩机和JEOL JBX 6AII电子束曝光系统等微米级掩模制造设备；拥有光束斑为8纳米，极限曝光线条达0.03微米的JEOL JBX 5000LS电子束光刻系统，可提供亚微米掩模制造、深亚微米晶片直写光刻技术服务和纳米级结构曝...

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