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砷化镓中硅的二次离子质谱定量分析技术研究

2002年 应用技术
  • 成果简介
该研究成果建立了一套完善的、对砷化镓材料中杂质和掺杂元素硅浓度微区分布的二次离子质谱定量分析系统。它适用于砷化镓器件和集成电路工艺研制中，对不同工艺条件下的注入硅的砷化镓晶片及分子束外延掺硅的砷化镓进行剖析测量。该分析系统分析动态范围大、灵敏度高、空间分辨好，定量分析结果真实地反映了掺杂原子在基体内的深度分布，具有较高精度，为进一步研究微电子器件失效机理、指导电路设计，进行引进器件的剖析，发挥了积...
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