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ICP-98型高密度等离子体刻蚀机

2001年 应用技术
  • 成果简介
高密度等离子刻蚀技术是深亚微米级集成电路生产中的关键技术之一，近年来微机械、微光学、光电子等行业的飞速发展急需刻蚀技术和设备升级换代，干法刻蚀尤其是高密度等离子体刻蚀是国外竞相发展的重点，但国外设备售价昂贵，国内很多单位根本无力购买。ICP-98型高密度等离子体刻蚀机是“九五”国家重点科技攻关基础上的成果之一，有自主专利权，该机蚀速率快，加工精度高，损伤小，是第三代刻蚀机，该机具备0.1-0.2微...
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