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Φ100MM重掺锑<100>硅单晶(抛光片)的研制

1998年

应用技术

成果简介

重掺锑(100)硅抛光片是制作N/N+硅外延片的主要衬度材料之一，应用在微电子技术及电力电子技术等方面制作高(低)压VDMOS管及IGBT等功率器件。重掺锑(100)硅单晶采用CZ法生产，并经过切、磨、抛等加工工序制成抛光片。由于锑的原子半径比硅大，锑在硅中分凝系数小及锑在硅熔件中蒸发速度快等原因，重掺锑硅单晶生长难度很大，另外在相同的热应力条件下，(100)晶向较(111)困难。该项目采取增加N...

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