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半导体用大直径真空法免清洗电弧石英坩埚

2006年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　该项目为湖北省科技攻关计划项目，报省科技厅立项攻关研发，其项目编号为2003AA101C15。该产品主要应用于半导体行业拉制单晶硅生产，是拉制单晶硅的主要基础器材和容器，是以电弧为热源，离心成型为基础，熔化高纯石英材料，同时在熔制过程中附以真空制造生产的。
　　该项技术的创新点是在生产熔制过程中附以真空，打破了常压状态的生产方式，进一步减少了生产过程中的气泡和杂质含量，提高其外观特...
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