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NTD硅中"辐照施主"的形成机理与结构

1996年 应用技术
  • 成果简介
  研究了NTDCZSI的退火行为、辐照施主的产生与湮灭条件,提供了合理的退火工艺,使得NTDCZSI得以保证稳定可靠的参数和参数的高质量、高均匀性,器件成品率提高了20--40%,国际先进水平。...
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