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蓝宝石衬底纳米磨料CMP技术的研究

2005年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
通过对抛光机理的深入研究，实现了抛光无划伤的效果，与国外同类技术比较，这种抛光液及技术可远超过其1μm/h的速率，且产生划伤少，表面粗糙度低，并可有效避免金属离子的沾污。
此成果完成后，适用于氮化镓基衬底材料蓝宝石晶体的全局平坦化，抛光液应用与规模生产，实现科技成果的转化，推向国际市场，年效益达到近千万元。...
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