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紫外正型光刻胶

1993年

应用技术

成果简介

通过选择合适的组成和合成工艺路线，合成出所需的感光剂及树脂；将其溶解于合适的溶剂中，并加入一定的添加剂配成胶液，选择最佳过滤途径，最后获得成品。紫外正型光刻胶主要用于大规模和超大规模集成电路、电子元件的研制和生产，以及光学机械加工工艺的微细加工。它具有优良的显影宽度和留膜率及粘附性，分辨率高，抗干法腐蚀能力强，耐热性好，去胶方便，在膜厚1um时，能刻出1～1.5um的线条。...

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