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极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法

2016年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　一种极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法。所述方法将含缺陷多层膜分为无缺陷部分和含缺陷部分两部分，并通过分割法和等效膜层法建模。首先通过薄掩模近似和相位补偿得到掩模吸收层衍射谱，再经过含缺陷多层膜的衍射，最后通过薄掩模近似和相位补偿，得到极紫外光刻含缺陷掩模的衍射谱。本发明提供了一种可快速有效仿真极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法。...
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