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优质外延衬底硅片

2002年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
随着用户对外延衬底硅片要求的提高，为争取和保持国内外市场份额，我们及时开发了优质外延衬底硅片。该产品作为外延衬底，广泛用于制作大规模集成电路，该产品在氧控、降硼、电阻率径向均匀性、背封和背面吸杂能力控制上有较大进步，满足了用户新的高标准要求。产品主要性能如下：
技术指标 单位 本项目 ...
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