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镀复SiO_2膜的电容器介质膜

2007年

应用技术

成果简介

　　研究成功一种能在几百小时连续沉积SiO_2膜的新颖电子束蒸发装置，获国家发明专利，在此基础上开发出镀复SiO_2膜的电容器介质膜。用镀复SiO_2（或AL_2O_3）膜的PP、PET膜制作电容器，其体积大幅度缩小，介质损耗极小，耐压提高，能在高温下稳定的工作。?
　　主要技术性能或技术指标：
　　可镀薄膜：所有有机薄膜与树脂薄膜
　　薄膜厚度：4～20μ ...

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