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离子注入MEMS硅器件的微摩擦学性能研究

2007年 应用技术
  • 成果简介
本项目将以单晶硅作为微器件材料，对硅基体材料进行氮、碳离子注入，研究不同注入参数在硅表面所形成的氮化硅、碳化硅陶瓷薄层的成分分布、组织结构特征；利用原位纳米力学测量系统研究氮、碳离子注入硅材料的硬度和弹性模量等力学性能的变化，对硅基体材料和不同氮、碳离子注入条件的样品开展探针和材料界面之间单向或往复滑动的微摩擦实验，对MEMS器件表面离子注入形成的氮化硅、碳化硅层的耐磨损性能进行评价，研究...
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