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OLED用ITO/Cr玻璃

2007年

应用技术

成果简介

课题研究了低温、低缺陷、低电阻率、低表面粗糙度的ITO薄膜磁控溅射制备工艺，氧等离子体处理提高功函数工艺，ITO/Ag合金/ITO/Cr多层膜在线镀膜工艺，并自主开发了采用上述技术的SVIV–M600型多层膜磁控溅射镀膜生产线，制成了规格为370mm×470mm×0.7mm的OLED用ITO/Cr玻璃基板，ITO方块电阻为6.9±0.3Ω/□，透过率（λ＝550nm）为81.9?～83.4...

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