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提高光刻分辨率的方法

2003年 应用技术
  • 成果简介
该发明专利是一种提高光刻分辨率的方法。该方法为：在接近或接触式光刻掩模板上的铬膜图案中的空气间隙内，在掩模板铬膜与硅片上光刻胶层之间的空气层隙内，填充折射率大于掩模板基片折射率的透明材料。并对空气层隙内与光刻胶层相接触的透明材料层的表面进行抛光。在进行光刻时，由于空气间隙和空气层隙内填充了折射率较大的透明材料，使得光束的折射角减小，衍射距离减小，有效地削弱了衍射效应。从而提高了光刻的分辨率。该专利...
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