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铟锡氧化物(ITO)陶瓷靶材

2001年 应用技术
  • 成果简介
铟锡氧化物(INDIUM TIN OXIDE)薄膜是一种非常重要的功能陶瓷薄膜。工业制备ITO薄膜的方法是直流磁控溅射法,用直流磁控射法要求获得高质量的获膜。关键是采用高密度、高纯度、高均匀性的ITO靶材,该项目以金属铟和SNCL_4.5H_2O为源物质,按90WT%+IN_2O_3+10WT%SNO_2配比,用化学共沉淀法制备ITO复合粉末。复合粉末经冷等静压等成型后进行热等静压致密比,从而...
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